素描

描主宇田川浩行#F85E
下描き希哲6年(2012年)
11月18日 15:37
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール
「*素描*」(そびょう,英語:sketch)は,輪郭法用語で,{描出}(#F85E/A-50B3)手法の一つである。 不完全であったり微細な描出であるが,形にする事で知識を保存したり発想の連鎖を起こす事が出来るため宇田川は重視している。推敲する時間を省く事で,より即時性の高い,細やかな描出が可能になる。 特に獲得した知識に関しては,どのような細かい事でも素描する事で蓄積になり,調査に関する二度手間を防げるので有用性が高い。
出力論組プログラム虎哲*イチ 1.1号
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