素描編集法

描主宇田川浩行#F85E
下描き希哲7年(2013年)
02月23日 10:33
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

素描編集法(そびょうへんしゅうほう,英訳:sketch editing method)とは, 希哲館・宇田川が開発している情報編集技法である。

大規模な描書を記述するために編み出したもの。

出力論組プログラム虎哲*イチ 1.1号
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