履複

描主宇田川浩行#F85E
上描き希哲9年(2015年)
04月28日 02:30
下描き希哲9年(2015年)
04月28日 02:14
利承
ライセンス
希哲館普通利承(KULクール

りふく

レプリカ。着実(履)に重ねる(複)希哲9年4月28日考案。〈replica〉の原義は「繰り返し」。

立複,列複……

この描出は「素描」です。

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出力論組プログラム虎哲*イチ 1.1号
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